Tech & Mediahightechsystems.nl
Nog een uitdager dient zich aan voor ASML’s euv-brontechnologie
Naast Substrate en XLight blijkt er nog een derde partij te werken aan een alternatief voor ASML’s euv-lichtbronnen. In een interview met Timestech schetst de Amerikaanse start-up Tau Systems plannen om compacte deeltjesversnellers en vrije-elektronenlasers in te zetten voor chiplithografie. ‘Ons doel is om de euv-lichtbron in moderne lithografiemachines te vervangen door zeer efficiënte röntgenlasers’, zegt Tau-ceo Jerome Paye.
Lees het volledige artikel bij hightechsystems.nl
Je gaat naar de website van de uitgever. Hier tonen we alleen een korte intro.
