Tech & MediaHardware.info
Imec en ASML werken samen om zo snel mogelijk sub-2nm-chips te kunnen produceren
Het Belgische onderzoeksinstituut Imec gaat samen met ASML werken aan het opzetten van een high numerical aperture (high-na)-euv-lithografielijn voor de ontwikkeling van sub-2nm-chips. Hiervoor gaat ASML zijn meest geavanceerde lithografie- en metrologieapparatuur verschaffen aan Imec, die daar vervolgens de 'proeflijn' mee gaat opzetten.

Je gaat naar de website van de uitgever. Hier tonen we alleen een korte intro.


