Tech & MediaHardware.info
Huawei patenteert EUV-lithografie voor chips kleiner dan 10 nm
Huawei heeft een component gepatenteerd om chips te kunnen fabriceren kleiner dan 10 nm. Het lost het probleem op van interferentiepatronen die door het ultraviolette licht worden gecreëerd en die anders de wafer ongelijkmatig zouden maken.

Je gaat naar de website van de uitgever. Hier tonen we alleen een korte intro.

