Tech & MediaTweakers
ASML bereikt 'first light' met eerste high-NA-euv-machine
ASML heeft 'first light' bereikt met zijn eerste lithografiemachine voor high-NA-euv. Dat bevestigde Intel-technologiemanager Ann Kelleher tijdens de SPIE Lithography-conferentie in Californië. High-NA-euv is naar verwachting in 2025 klaar voor productie.
:strip_exif()/i/2005229388.jpeg?f=meta)
Je gaat naar de website van de uitgever. Hier tonen we alleen een korte intro.
